DyScO3 အလွှာ

DyScO3 (dysprosium scandate) substrate သည် ပါးလွှာသော ဖလင်ကြီးထွားမှုနှင့် epitaxy နယ်ပယ်တွင် အသုံးများသော သီးခြားအလွှာပစ္စည်းအမျိုးအစားကို ရည်ညွှန်းသည်။၎င်းသည် dysprosium၊ scandium နှင့် oxygen ions တို့ပါ၀င်သော သီးခြား crystal structure ပါရှိသော တစ်ခုတည်းသော crystal substrate တစ်ခုဖြစ်သည်။

DyScO3 အလွှာများတွင် ၎င်းတို့ကို အပလီကေးရှင်းအမျိုးမျိုးအတွက် သင့်လျော်အောင်ပြုလုပ်ပေးသော နှစ်လိုဖွယ်ဂုဏ်သတ္တိများစွာရှိသည်။၎င်းတို့တွင် မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်များ၊ ကောင်းသောအပူတည်ငြိမ်မှု၊ အောက်ဆိုဒ်ပစ္စည်းများစွာနှင့် ရာဇမတ်ကွက်များ မကိုက်ညီသောကြောင့် အရည်အသွေးမြင့် epitaxial ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များ ကြီးထွားမှုကို ဖြစ်စေသည်။

ဤအလွှာများသည် ferroelectric၊ ferromagnetic သို့မဟုတ် high-temperature superconducting ပစ္စည်းများကဲ့သို့ အလိုရှိသော ဂုဏ်သတ္တိများရှိသော ရှုပ်ထွေးသော အောက်ဆိုဒ်ပါးလွှာသော ဖလင်များကို ကြီးထွားရန်အတွက် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။အလွှာနှင့် ဖလင်ကြားရှိ ကောက်တင်များ မညီမညွတ်သည် အချို့သော ဂုဏ်သတ္တိများကို ထိန်းချုပ်ပြီး မြှင့်တင်ပေးသည့် ဖလင်တင်းမာမှုကို ဖြစ်စေသည်။

DyScO3 အလွှာများကို R&D ဓာတ်ခွဲခန်းများနှင့် စက်မှုပတ်ဝန်းကျင်များတွင် pulsed laser deposition (PLD) သို့မဟုတ် molecular beam epitaxy (MBE) ကဲ့သို့သော နည်းပညာများဖြင့် ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များကို ကြီးထွားစေရန်အတွက် အသုံးများသည်။ထွက်ပေါ်လာသော ရုပ်ရှင်များကို အီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်း၊ စွမ်းအင်ထုတ်ပိုးမှု၊ အာရုံခံကိရိယာများနှင့် ပုံသဏ္ဍာန်ဆိုင်ရာ ကိရိယာများ အပါအဝင် အပလီကေးရှင်းများစွာတွင် ထပ်မံလုပ်ဆောင်ပြီး အသုံးပြုနိုင်ပါသည်။

အချုပ်အားဖြင့်၊ DyScO3 အလွှာသည် dysprosium၊ scandium နှင့် အောက်ဆီဂျင်အိုင်းယွန်းများ ပါဝင်သော တစ်ခုတည်းသော crystal substrate ဖြစ်သည်။၎င်းတို့ကို နှစ်လိုဖွယ်ကောင်းသော ဂုဏ်သတ္တိများဖြင့် အရည်အသွေးမြင့် ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များကို စိုက်ပျိုးရန်နှင့် အီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်း၊ စွမ်းအင်နှင့် optics ကဲ့သို့သော နယ်ပယ်အသီးသီးတွင် အသုံးချမှုများကို ရှာဖွေရန် အသုံးပြုသည်။